行业动态
蒸发镀膜材料介绍
2013/1/7 16:39:42 来源: 管理员
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于:
1. 基片材料与靶材的晶格匹配程度
2. 基片表面温度
3. 蒸发功率,速率
4. 真空度
5. 镀膜时间,厚度大小。
组分均匀性:
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性:
1. 晶格匹配度
2. 基片温度
3. 蒸发速率